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硅晶片研磨用平板状氧化铝耐磨粉PWA12

平板状氧化铝是以氧化铝为原料,经过煅烧结晶,研磨,水力分级,烘干,筛松等工艺生产而成,纯度达到99%以上,具有优异的耐热性,耐酸碱腐蚀性,采用独特的生产工艺,使其颗粒尺寸更均匀。


产品内容

硅晶片研磨用平板状氧化铝耐磨粉PWA12
化学成分         

Al2O3 >99.0%
SiO2 <0.2%
Fe2O3 <0.1%
Na2O <1%
物理特性
莫氏硬度 9.0
比重 >3.9g/cm3
外观 平板状
常规型号粒度分布标准
粒度 D0 D3 D50 D94
PWA12 <20.3 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
包装:2个10千克塑料袋装进一个纸箱,50个纸箱打一个托盘
主要用途
研磨、抛光半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、水晶、石英玻璃、硬质玻璃、光学玻璃、液晶显示器(LCD)玻璃基板、压电石英晶体、化合物半导体材料、精密陶瓷材料、高档轴承球衬、蓝宝石,磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高档高温涂料(高档油漆,密封胶,化妆品)的填充材料

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